삼성 기술 유출범 법정 사과, 엄벌 요구 이어져
중국 CXMT에 삼성 반도체 기술을 유출한 전직 임원이 항소심에서 처음으로 공개 사과했다. 커뮤니티에서는 배신자에 대한 냉담한 반응과 함께 산업 스파이 처벌을 강화해야 한다는 목소리가 높다.
삼성전자의 18나노 D램 국가핵심기술을 중국 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 유출한 혐의로 기소된 전 삼성전자 부장 전모씨가 항소심 법정에서 처음으로 공개 사과했다. 그는 반성문을 통해 삼성전자가 최대 피해자임을 인정하며 자백이 재발 방지에 도움이 된다고 밝혔다. 관련 기사와 인포그래픽에 따르면 전씨를 포함한 피고인들은 고액 보상을 받고 CXMT로 이적했으며, 삼성의 공정 정보를 빼돌려 중국 측 양산을 도운 것으로 조사됐다.
커뮤니티에서는 이러한 행위를 매국노나 내란에 비유하며 강한 분노를 표출하고 있다. 일부는 미국이나 중국처럼 테러나 간첩 수준으로 형량을 높여야 한다고 주장한다. 또한 SK하이닉스 협력사 직원의 USB 밀반입 사건 등 다른 기술 유출 사례가 언급되며, 산업 스파이에 대한 영구 추방, 재산 몰수, 신상공개 등 법적 제재를 대폭 강화해야 한다는 의견이 지배적이다. 반면 삼성도 과거 일본 기술을 습득해 성장했다는 비판적 시각도 일부 존재하지만, 현재 화제의 중심은 가담자에 대한 엄벌과 사회적 매장이다.
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